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高品质等离子化学沉积PECVD(SiN/SiO/a-Si)

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高品质等离子化学沉积PECVD(SiN/SiO/a-Si)

价格30000000.00
产品/服务
主营产品半导体制造装备,光伏电池制造装备,光伏硅片制造装备,LED芯片制造装备,LED衬底材料制造装备,FPD生产检测装备,光电材料装备,IC芯片技术咨询,光电材料,高科技产业技术咨询,环保节能装备,半导体检测装备,信息名址系统
关键词
面向地区 广东省 - 深圳市

深圳市华年风科技有限公司

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联系人陈武鹏  
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联系电话755-82828506
联系地址广东,深圳,,财富广场B-18FG
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详情描述

可沉积各种硅系(Si0或者Si3N4)薄膜为目的的等离子沉膜设备。该设备具有沉膜上所需要的所有功能,并且跟原来设备相比减少了40%的安装面积,可用在最尖端的研究或半批量生产上。   

                                                    

应用例:

  1、沉积氮化硅(SiN)膜;

  2、沉积氧化硅(Si02)膜;

  3、沉积非晶硅膜;

  4、沉积其他薄膜。

 

应用领域:

  1、LED芯片

  2   Opto光电器件

  3   其它

 

特长:

  1、小型设计,适用5片3英寸,3片4英寸或者1片8英寸晶片;

  2、最大100个工艺步骤;

  3、装备各种安全互锁功能。

 

可沉积各种硅系(Si0或者Si3N4)薄膜为目的的等离子沉膜设备。该设备具有沉膜上所需要的所有功能,并且跟原来设备相比减少了40%的安装面积,可用在最尖端的研究或半批量生产上。   

 

该产品国内用户众多,颇受好评。

至2011年底,几乎国内各大高校及科研院所均有其身影。

 

 

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